Ústav výskumu progresívnych technológií

Ústav výskumu progresívnych technológií (ATRI - Advanced Technologies Research Institute) bol založený v r. 2013 a je zameraný predovšetkým na materiálové inžinierstvo v oblasti tenkých vrstiev, syntézy nových materiálov pomocou fyzikálnych techník (iónových a plazmových technológií) ako aj počítačové modelovanie materiálov a štruktúr a výskum radiačného poškodenia. Taktiež poskytuje vysokocitlivú analýzu chemického zloženia vrátane ľahkých prvkov a vodíka. V komerčnej oblasti je zameraný predovšetkým na vysokoenergerickú iónovú implantáciu pre polovodičový priemysel vrátane testovacích a experimentálnych sérií.

Infraštruktúra pracoviska 

1.  6 MV tandemový urýchľovač iónov

6 MV urýchľovací systém poskytuje iónové zväzky širokej palety prvkov (od H po U, s výnimkou inertných plynov ťažších ako He). Slúži na analýzu pomocou iónového zväzku (IBA) a na iónovú implantáciu. Umožňuje vysoko citlivú analýzu prvkového zloženia (v závislosti od vzorky až po úroveň ppm), simuláciu radiačného poškodenia (jadrové materiály, elektronika pre kozmické aplikácie), iónmi indukované fázové premeny a vysokoenergetickú iónovú implantáciu (dopovanie aj defect engineering). Urýchľovač je tiež schopný vytvárať rádioizotopy, napríklad pre potreby merania nanoopotrebenia alebo rádioznačkovače (tracers).   

Komora pre iónovú implantáciu a ožarovanie – veľkosť substrátu a podmienky: Substrát s maximálnym priemerom do D = 100 mm môže byť ohrievaný do 500 °C alebo chladený tekutým dusíkom na −196 °C. Substrát s maximálnym priemerom do D = 40 mm môže byť umiestnený na vodou chladený držiak alebo na ohrievač s teplotou do 1000 °C. V tejto komore je možné realizovať experimenty in situ aj in operando (napr. na elektronických súčiastkach) a rovnako je možné zabezpečiť bezprašné prostredie triedy ISO 5.  

Analýza pomocou iónového zväzku – dostupné techniky: a) Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS) b) Particle Induced X-ray Emission (PIXE) c) Elastic Recoil Detection Analysis (ERDA) d) Nuclear Reaction Analysis (NRA)   

Požiadavky na vzorky: Ideálne sú platničky s rozmermi 10 × 10 cm², je však možné analyzovať aj iné rozmery a hrúbky – maximálny rozmer závisí od použitej techniky (pre ERDA je max. rozmer D = 100 mm). Materiál musí byť dostatočne kompaktný a nesmie sa rozkladať vo vákuu. Úprava a príprava vzorky na meranie je potrebné dohodnúť vopred.

2. ​ ​​500 kV iónový implantátor

Iónový implantátor s urýchľovacím napätím 500 kV poskytuje iónové zväzky prakticky všetkých chemických prvkov až do intenzity 2 mA (s výnimkou deutéria a syntetických rádionuklidov – v prípade požiadavky na takýto zväzok je nutné samostatné povolenie UVZ SR). K dispozícii sú dve implantačné komory.   Veľkosť substrátu a podmienky implantácie/ožarovania: • Max. priemer D = 100 mm – ohrev do 500 °C alebo chladenie tekutým dusíkom na −196 °C • Max. priemer D = 40 mm – ohrievač do 1000 °C • Max. priemer D = 200 mm – vodou chladený držiak   Možnosť realizácie experimentov in situ aj in operando (napr. na elektronických súčiastkach). Možnosť zabezpečenia bezprašného prostredia triedy ISO 5.

3.  Riadkovací elektrónový mikroskop s fokusovaným iónovým zväzkom.

Riadkovací elektrónový mikroskop s fokusovaným iónovým zväzkom. Mikroskop s termoemisnou katódou umožňuje pozorovanie vzoriek v skenovacom režime s ultra-vysokým rozlíšením a nano-obrábanie materiálov fokusovaným iónovým zväzkom (FIB) gália. Režim nízkeho vákua je vhodný na analýzu slabo vodivých/nevodivých vzoriek bez pokovania. Trojšošovkový objektívový systém, TriLens™, umožňuje režim imerzného zobrazovania s ultra vysokým rozlíšením (UHR) a vysokovýkonný analytický režim. Schottkyho emisná katoda je schopná generovať prúdy zväzku až do 400 nA s rýchlymi zmenami energie zaručujúci vynikajúci signál pre všetky mikroanalytické aplikácie. Okrem detektoru sekundárnych elektrónov (SE) a výsuvného detektoru odrazených elektrónov (BSE) sú k dispozícii pre pozorovanie In-beam SE, BSE a mid-angle BSE detektory. EDS analyzátor ULTIM MAX od Oxfrod Instruments umožňuje kvantitatívnu a kvalitatívnu prvkovú analýzu a mapovanie rozloženia prvkov vo vzorke od bóru vyššie.Ga FIB stĺpec  s optimalizovanou iónovou optikou poskytuje rozlíšenie <2.5nm pri 30kV a  vynikajúci výkon pre opracovávanie vzoriek. Mikroskop je vybavený s nanomanipulátorom a systémom vstrekovania plynu OptiGISTM s Pt plynovým prekurzorom. Simultánne zobrazovanie SEM počas  FIB obrábania je ideálne na prípravu lamiel TEMPrevádzkové napätie:SEM: 50V-30kVFIB: 500V -30kVMaximálne rozmery vzorky (pri plnom rozsahu XY pohyboch a rotácii):Priemer: 180mmVýška: 90 mmHmotnosť: 1000g

4.  Magnetrónový naprašovací systém s dvomi komorami, jednou pre DC a druhou je RF naprašovanie

Zariadenie magnetrónového naprašovania disponuje možnosťou prípravy funkčných tenkých vrstviev s hrúbkou od desiatok nanometrov po desiatky mikrometrov. Dve vákuové komory s DC a RF napájaním zabezpečujú prípravu od čistých kovov po komplexné zlúčeniny vďaka trom zdrojom materiálu v každej z komôr s presným ladením parametrov k dosiahnutiu zmien štruktúrnych, chemických, optických alebo mechanických vlastností. Rozmer vzoriek do priemeru 10 cm, objemové vzorky po konzultácii.

5.  Röntgenová fotoelektrónová spektroskopia (XPS)   

Metóda umožňuje detailnú analýzu povrchu. Okrem elementárnú analýzy je možné určiť chemickú informáciu materiálu na základe chemických posunov z energií fotoelektrónov. Tie nesú informáciu o oxidačnom čísle atómov v každej  zlúčenine. Metóda je povrchovo citlivá a veľkosť a charakter vzoriek je obmedzený rozmerom (do 5x5cm) a vhodnosťou do veľmi vysokého vákua.Sample text. Click to select the Text Element.

6.  Atomárna silová mikroskopia (AFM) kombinovaná s Raman analýzou 

Metóda predstavuje moderné analytické zariadenie umožňujúce korelované merania topografie a chemického zloženia vzorky. AFM poskytuje detailný obraz povrchu s nanometrovým rozlíšením na základe interakcií medzi ostrým hrotom a povrchom materiálu. Ramanovský spektrometer zároveň umožňuje identifikovať chemické väzby a fázy prostredníctvom analýzy rozptylu svetla. Spojenie týchto techník prináša výhodu simultánneho zobrazenia morfologických aj chemických vlastností tej istej oblasti.Sample text. Click to select the Text Element.

7.  Analýza pružného rozptylu iónov - Time-of-Flight Elastic Recoil Detection Analysis (ToF-ERDA) 

je analytická technika využívajúca iónový zväzok určená na detailnú charakterizáciu zloženia vzoriek. Umožňuje detekciu prvkov periodickej tabuľky od vodíka po urán s detekčným limitom až 0,02 at.% do hĺbky približne 500 nm. Vďaka princípu merania doby letu a energie vyrazených atómov dokáže vytvárať presné hĺbkové profily prvkového zloženia, vrátane jednotlivých izotopov daných prvkov. ToF-ERDA sa vyznačuje mimoriadnou presnosťou kvantitatívnej analýzy, ktorá zaručuje spoľahlivé výsledky aj pri stopových koncentráciách. Sample text. Click to select the Text Element.